我正在一个运行yocto的嵌入式系统上构建一个前端，并使用wayland进行窗口合成。
由于与线程、Qt和外部库相关的原因，应用程序被分成两部分。一个是显示Map的应用程序，另一个是显示控件覆盖的半透明应用程序。问题是后台应用程序需要更长的时间才能启动，因此在启动时处于前台。
我最初的计划是简单地设置“总是在顶部”的覆盖和完成它，但搜索和阅读已经导致我的事实，这是不是真正的事情在韦兰。
当前的解决方案是将前景窗口隐藏一秒钟，然后再次显示，这是可行的，但是前景窗口会以一种令人不快的方式 Flink 。
所有这些都促使我尝试创建自己的基于Qt's example code的合成器，创建一个具有固定分层顺序的合成器，而不管启动顺序或单击顺序如何。
现在我遇到了问题的核心：**我找不到一个合理的方法来识别我正在创建的窗口，以设置它们的分层顺序。**理想情况下，我想找到一个窗口标题或其他可复制的键，但Wayland似乎不支持这些东西的设计。
我已经开始尝试通过尺寸来识别窗口：将背景窗口设置为比前景宽一个像素。这似乎可以工作，但在创建视图/曲面时检查QWaylandCompositor（和相关）对象，两个尺寸都为-1。我发现它们在某个时候被设置为正确的尺寸，但这似乎很不好。
最理想的方法是在创建界面时从客户端发送一些元数据，告知窗口是否应该在顶部。我假设这可以使用扩展来实现，但我在网上找不到任何有价值的东西。
这可能吗？我是不是找错地方了？